ディスク用基板成形法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：岡田數彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-047632
公開番号（公開出願番号）：特開平5-212756
出願日： 1992年02月04日
公開日（公表日）： 1993年08月24日
要約：

【要約】【目的】極めて平坦度の高い膜形成基板を製造することのできるディスク用基板成形法を提供すること。【構成】一対の金型間のキャビティ内への溶融樹脂の射出工程完了後の保圧工程から冷却工程中の間に一方の金型の他方の金型に対する型締め圧力を少なくとも1回変化させるか、金型の両面の温度を変え若しくは金型の径方向内側と外側の温度を変えた上で型締め圧力を変化させることによりディスク用基板に予め所定の反りを与える。【効果】基板に、成形後の形状経時変形および成膜による変形を見込んで、これを相殺させ得る正確な逆方向反りを与えることができるため、膜形成基板をほぼ平坦にすることができる。

請求項（抜粋）：

一対の金型間に形成されるキャビティ内に溶融樹脂を射出してディスク用基板を射出成形する方法において、前記キャビティ内への溶融樹脂の射出工程完了後の保圧工程から冷却工程中の間に一方の前記金型の他方の前記金型に対する型締め圧力を少なくとも1回変化させて成形後の前記ディスク用基板の形状の経時変形量および前記ディスク用基板上に成膜する際の熱応力又は膜応力等による前記ディスク用基板の変形量を見込んで予めその逆方向に前記ディスク用基板を変形させることを特徴とするディスク用基板成形法。

IPC (6件)：

B29C 45/26 , B29C 33/76 , B29C 45/70 , B29C 45/73 , G11B 7/26 521 , B29L 17:00

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭61-095915
特開昭59-073910

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