特許
J-GLOBAL ID：200903072493829064
レーザマイクロスポット溶接装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-400309
公開番号（公開出願番号）：特開2003-200286
出願日： 2001年12月28日
公開日（公表日）： 2003年07月15日
要約：
【要約】【課題】 スポット径を変える場合、集光レンズと被加工物との間の距離を変化させる機構が不要なレーザマイクロスポット溶接装置を提供することを課題とする。【解決手段】 レーザ光源21から出射したビームを集光レンズ23で集光し、集光したビームを光ファイバ25に入射させ、光ファイバ25から出射したビームを集光光学系31に導き、集光光学系31を用いてビームを被加工物33上に集光し、溶接を行なうレーザマイクロスポット溶接装置において、光ファイバ25の出射面でのビームの拡がり角を変える調整手段35を設ける。
請求項（抜粋）：
レーザ光源から出射したビームを集光レンズで集光し、集光したビームを光ファイバに入射させ、前記光ファイバから出射したビームを集光光学系に導き、該集光光学系を用いて前記ビームを被加工物上に集光し、溶接を行なうレーザマイクロスポット溶接装置において、前記光ファイバの出射面での前記ビームの拡がり角を変える調整手段を設けたことを特徴とするレーザマイクロスポット溶接装置。
IPC (3件)：
B23K 26/06
, B23K 26/00 310
, B23K 26/08
B23K 26/06 E
, B23K 26/00 310 A
, B23K 26/08 K
4E068BA00
, 4E068CA07
, 4E068CD08
, 4E068CE08
