特許
J-GLOBAL ID:200903072494911724

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 栗原 浩之
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-243461
公開番号(公開出願番号):特開平9-090631
出願日: 1995年09月21日
公開日(公表日): 1997年04月04日
要約:
【要約】【課題】 高感度、高解像であり、基板との密着性が良好であり、酸素の影響を受けず、経時安定性が良好なレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】 ヒドロキシプロピルセルロースと光酸発生剤とを必須成分とし、有機溶媒で溶解して組成物とする。これを基板上に塗布・乾燥すると感光層が形成でき、露光後、加熱し、水現像することにより、ネガ型パターンが形成できる。
請求項(抜粋):
ヒドロキシプロピルセルロースと光酸発生剤とを必須成分として含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。
IPC (6件):
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/027
FI (7件):
G03F 7/038 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/38 511 ,  H01L 21/30 502 R ,  H01L 21/30 569 F
引用特許:
審査官引用 (6件)
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