特許
J-GLOBAL ID：200903072499909485
誘導加熱し得る加工品上に表面層を形成する方法および装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-139929
公開番号（公開出願番号）：特開平7-148585
出願日： 1991年06月12日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】表面層の厚さ、表面組織、結晶構造、延性、硬が等は均一で優れた表面層を得る。【構成】本方法によれば表面層101を形成すべき加工品10およびその部分は誘導HF/MF 発生器加熱装置2、20によって第一温度まで加熱される。被覆すべき表面の領域10”はさらにレーザ装置3、30、30’、31、32によって加熱され、加工品10、10’、10”上に表面層が形成されるようにする。本装置はレーザ装置3、30、30’、31、32およびHF/MF 加熱装置より成り、加工品10、10’、10”はこれら両方の影響を同時に受け、かつ熱的に処理される。本方法によって形成された表面層101は優れた品質を有している。その理由は本方法による時は、明らかに温度および他のパラメータの維持状態が改善されるからである。
請求項（抜粋）：
誘導加熱し得る加工品(10、10’、10”)上に表面層(101)を形成する方法において、加工品(10)上の、少なくとも被覆すべき部分(10”)を第1温度領域において誘導的に加熱し、かつ加工品のこのように誘導加熱された被覆すべき表面領域(10”)を、さらにレーザ光線(30、30’)およびレーザエネルギーによって加熱または融解することによって表面層(101)が形成されるようにすることを特徴とする表面層形成方法。
IPC (7件)：
B23K 26/00 310
, B23K 26/00
, B23K 26/14
, F01L 3/02
, F01L 3/24
, G01K 7/00
, B23K 31/00
