特許
J-GLOBAL ID:200903072514570279
磁気ディスク用基板の表面加工方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
長谷川 曉司
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-296830
公開番号(公開出願番号):特開2001-118242
出願日: 1999年10月19日
公開日(公表日): 2001年04月27日
要約:
【要約】【課題】 磁気ディスク用基板の表面を平滑でかつ均一な粗さを有するように仕上げる。【解決手段】 表面に導電層を有する磁気ディスク用基板を回転させ、基板に対向して設置されている電極と基板間を電解液で電気的に導通させた状態で両者間に電圧を印加し、かつ基板にクリーニング材を接触させて基板表面の電解処理とクリーニング材による摩擦クリーニング処理を同時に行う磁気ディスク用基板の表面加工方法において、電解液を電極から中心角で回転方向上流側60度以内の位置で基板上に供給する。
請求項(抜粋):
表面に導電性の非磁性層を有する磁気ディスク用基板を回転させ、基板に対向して設置されている電極と基板間を電解液で電気的に導通させた状態で両者間に電圧を印加し、かつ基板にクリーニング材を接触させて、基板表面の電解処理とクリーニング材による摩擦クリーニング処理とを同時に行う磁気ディスク用基板の表面加工法において、電解液を電極から中心角で回転方向上流側60度以内の位置で基板上に供給することを特徴とする方法。
IPC (2件):
FI (2件):
G11B 5/84 A
, C25F 1/00 Z
Fターム (9件):
5D112AA02
, 5D112AA03
, 5D112BA06
, 5D112BD06
, 5D112GA09
, 5D112GA13
, 5D112GA14
, 5D112GA26
, 5D112GA30
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