特許

J-GLOBAL ID：200903072526238539

樹脂製ブラックマトリクスの製造方法、該ブラックマトリクスを用いたカラ-フィルタの製造方法、及び該製造方法で製造されたカラ-フィルタを用いた液晶素子

発明者： 坂本 淳一 ,  小佐野 永人 ,  岩田 研逸 ,  小久保 智
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 敬介 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-314771
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199967
出願日： 1999年11月05日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】 ネガ型のブラックレジストをプロキシミティ露光によりフォトマスクのパターンに忠実にパターン形成する。【解決手段】 ネガ型のブラックレジストをフォトマスクを介してプロキシミティ露光する際に、露光量を14.0〜70.0mJ/cm2の範囲に設定して行う。

請求項（抜粋）：

基板上にネガ型ブラックレジストを形成する工程と、フォトマスクを介して前記レジストを14.0〜70.0mJ/cm2の露光量で露光する工程と、露光された前記レジストを現像してパターンを形成する工程とを有することを特徴とする樹脂製ブラックマトリクスの製造方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500

FI (3件)：

G03F 7/20 501 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 500