特許

J-GLOBAL ID：200903072531158756

アッシング処理装置及び該処理装置用部品の製作方法

発明者： 三谷 克彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高田 幸彦 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-048939
公開番号（公開出願番号）：特開2001-237235
出願日： 2000年02月21日
公開日（公表日）： 2001年08月31日
要約：

【要約】【課題】アッシング装置のプラズマ生成室とアッシング処理室を隔てるアルミ合金製の仕切り板の表面が酸化すると、該アルミ酸化膜表面でのOラジカル密度が減少しアッシング速度が低下する。【解決の手段】所望の開孔部107を形成した後、シリカ系溶液のコーティングにより側壁部も含めた表面をガラス系皮膜109により覆ったアルミ合金製の仕切り板108を用いて、プラズマ生成室105とアッシング処理室を隔てたアッシング装置を用いる。

請求項（抜粋）：

アッシング生成を行う領域とアッシング処理を施す領域が複数の開孔部を具備した導電性の仕切り板により隔てられているアッシング処理装置において、該導電性の仕切り板表面が、前記開孔部の側壁部も含めてガラス系皮膜により覆われていることを特徴とするアッシング処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/3065 ,  B01J 19/00 ,  B01J 19/12 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

B01J 19/00 H ,  B01J 19/12 G ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 H ,  H01L 21/302 N

Fターム (23件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA52 ,  4G075AA53 ,  4G075AA62 ,  4G075AA63 ,  4G075BB10 ,  4G075BD16 ,  4G075CA02 ,  4G075CA03 ,  4G075CA53 ,  4G075EC09 ,  4G075FB06 ,  4G075FC04 ,  4G075FC09 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F004DA00 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26