特許

J-GLOBAL ID：200903072557810648

シリルエノールエーテル類の製造方法

発明者： 渕上 高正 ,  五十嵐 庸
出願人/特許権者： 財団法人相模中央化学研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-015904
公開番号（公開出願番号）：特開平11-217391
出願日： 1998年01月28日
公開日（公表日）： 1999年08月10日
要約：

【要約】【課題】 有機合成中間体や、各種機能性材料等、幅広い分野で有用な化合物であるシリルエノールエーテル類の製造方法を提供する。【解決手段】 一般式R-(C=O)-CHR’R”で示されるケトン類と一般式H-SiR1R2R3で示されるヒドロシラン類とを第7〜10族遷移金属触媒、および一般式R4Xで示されるハロゲン化合物の存在下反応させることからなる、一般式R-(C-OSiR1R2R3)=CR’R”で示されるシリルエノールエーテル類の製造方法。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)R-(C=O)-CHR’R” (I)(式中、R、R’およびR”は、それぞれ独立に、アルキル基、芳香族基、または水素原子を表す。また、それらのうちの2つが一体となって結合している炭素原子と共に環を形成していてもよい。)で示されるケトン類と、下記一般式(II)H-SiR1R2R3 (II)(式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に、アルキル基、または芳香族基を表す。)で示されるヒドロシラン類とを第7〜10族遷移金属触媒、および下記一般式(III)R4X (III)(式中、Xは、ハロゲン原子を示す。またR4は、水素原子、アルキル基、芳香族基、アンモニウム、またはハロゲン原子を示す。)で示されるハロゲン化合物の存在下反応させることを特徴とする、下記一般式(IV)R-(C-OSiR1R2R3)=CR’R” (IV)(式中、R、R’、R”、R1、R2およびR3は上記と同様である。)で示されるシリルエノールエーテル類の製造方法。