特許

J-GLOBAL ID：200903072565643866

フォトマスク及び拡散反射板

発明者： 藤井 幸男 ,  佐藤 行一
出願人/特許権者： 新エスティーアイ テクノロジー株式会社
代理人 (3件)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-067029
公開番号（公開出願番号）：特開2004-279473
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年10月07日
要約：

【課題】干渉縞やムラが生じない状態で反射輝度が高い拡散反射板を製造することができるフォトマスク及び拡散反射板を提供する。【解決手段】このフォトマスクでは、中心点11〜19,31,34,37,21,22,23から構成されるドロネー三角形群において、ドロネー三角形の面積の平均値A及び標準偏差Bが所定の数値範囲内となるように、単位領域R1内の中心点11〜19は配置されている。これにより、境界線Bd2,Bd3近傍においても単位領域間に継ぎ目のないパターン配置を有するフォトマスクが得られ、干渉縞やムラが生じない状態で反射輝度が高い拡散反射板が製造できる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

複数の孤立パターンの中心点が配置された長方形、平行四辺形、又は六角形の単位領域を隣接して繰り返し配置してなるパターン領域を有するフォトマスクにおいて、 前記単位領域内の前記中心点から構成される複数のドロネー三角形と、前記単位領域と隣接する他の単位領域との境界線を横断して構成される複数のドロネー三角形との面積の総和が前記単位領域の面積と同一となるドロネー三角形群を設定し、この三角形群を構成する複数のドロネー三角形の面積の平均値をA、標準偏差をBとした場合、 前記中心点は、 以下の条件: 70μm2≦A≦120μm2 0.05≦B/A≦0.25 を満たすように配置されることを特徴とするフォトマスク。

IPC (5件)：

G02B5/02 ,  G02B5/08 ,  G02F1/1335 ,  G03F1/08 ,  G03F7/207

FI (6件)：

G02B5/02 C ,  G02B5/08 A ,  G02B5/08 C ,  G02F1/1335 520 ,  G03F1/08 D ,  G03F7/207 Z

Fターム (27件)：

2H042BA03 ,  2H042BA15 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA08 ,  2H042DA11 ,  2H042DC02 ,  2H042DC08 ,  2H042DD00 ,  2H042DE00 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA16Y ,  2H091FA32Y ,  2H091FB08 ,  2H091FC02 ,  2H091FC10 ,  2H091FC22 ,  2H091FC24 ,  2H091GA13 ,  2H091KA10 ,  2H091LA16 ,  2H091LA18 ,  2H091LA21 ,  2H095BB02 ,  2H095BC09 ,  2H097GA45 ,  2H097LA17