特許
J-GLOBAL ID：200903072572708124
リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-300866
公開番号（公開出願番号）：特開2005-136404
出願日： 2004年10月15日
公開日（公表日）： 2005年05月26日
要約：
【課題】液浸リソグラフィ投影システムの光学性能を効果的に制御可能にする。【解決手段】投影システムの最終エレメントと基板の間に充填された液浸液から形成された、調整装置によって調整することができる光学特性を有するレンズを備えた液浸リソグラフィ装置である。調整装置は、液体レンズの特性、たとえば形状、組成、屈折率或いは吸収率などを空間若しくは時間の関数として調整するべく構成されており、それにより液浸リソグラフィ装置の画像化性能を変更することができる。【選択図】図4
請求項（抜粋）：
投影放射ビームを提供するための放射システムと、
前記投影ビームを所望のパターンに従ってパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、
基板を保持するための基板テーブルと、
パターン化されたビームを前記基板の目標部分に投射するための投影システムとを備えたリソグラフィ投影装置であって、液体から形成された、調整可能な光学特性を有するレンズと、前記光学特性を調整するための調整装置とを備えたことを特徴とするリソグラフィ投影装置。
IPC (2件)：
FI (5件)：
H01L21/30 515D
, G03F7/20 521
, H01L21/30 516A
, H01L21/30 516D
, H01L21/30 516E
5F046BA04
, 5F046CB01
, 5F046CB26
, 5F046CC01
, 5F046DA02
, 5F046DA13
, 5F046DA14
, 5F046DA26
, 5F046DA27
, 5F046DB02
, 5F046DB03
, 5F046DB07
, 5F046DC09
, 5F046DC10
