特許

J-GLOBAL ID：200903072584581375

ネガ型レジスト組成物及びネガ型レジスト像の製造法

発明者： 山崎 範幸 ,  粕谷 圭 ,  中野 一 ,  橋本 政弘 ,  鯉渕 滋 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-258430
公開番号（公開出願番号）：特開平11-095432
出願日： 1997年09月24日
公開日（公表日）： 1999年04月09日
要約：

【要約】【課題】 窒化膜、あるいは酸化膜を表面に有する基板に適用しても、紫外線、遠紫外線、あるいはX線、電子線等の活性放射線に対する感度が高く、かつ解像度に優れたネガ型化学増幅系レジスト組成物及びこのネガ型化学増幅系レジスト組成物を用い、工程を増やすことなく、解像度に優れているレジスト像の製造法を提供する。【解決手段】 アルカリ水溶液可溶性樹脂、酸発生剤及び水酸基価が10以上のメトキシ化メラミンホルムアルデヒド樹脂架橋剤を含有してなるネガ型化学増幅系レジスト組成物及びこのネガ型化学増幅系レジスト組成物を基板上に塗布し、乾燥後、活性放射線照射を行い、加熱し、次いでアルカリ水溶液で現像することを特徴とするレジスト像の製造法。

請求項（抜粋）：

アルカリ水溶液可溶性樹脂、酸発生剤及び水酸基価が10以上のメトキシ化メラミンホルムアルデヒド樹脂架橋剤を含有してなるネガ型化学増幅系レジスト組成物。

IPC (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

G03F 7/038 601 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R