特許
J-GLOBAL ID：200903072589892751
投影露光用のマスク又はレチクル並びに転写用マスク、 及びそれらによる露光又は転写パターン
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-185963
公開番号（公開出願番号）：特開平7-043884
出願日： 1993年07月28日
公開日（公表日）： 1995年02月14日
要約：
【要約】【目的】 多種類の所望の線幅を有するパターンを形成できる投影露光用のマスク又はレチクル並びに転写用マスク、及びそれらによる露光又は転写パターンを提供する。【構成】 多種類の設計線幅を有するパターンを設けた投影露光用のマスクM又はレチクルにおいて、前記マスク上又はレチクル上のパターンを投影露光して得られる露光パターンが有する多種類の線幅がそれぞれ所望の線幅となるように、対応する前記所望の各線幅との比をそれぞれ独立的に設定した多種類の設計線幅、を有するパターンを設けたことを特徴とする投影露光用のマスク又はレチクル。
請求項（抜粋）：
多種類の設計線幅を有するパターンを設けた投影露光用のマスク又はレチクルにおいて、前記マスク上又はレチクル上のパターンを投影露光して得られる露光パターンが有する多種類の線幅がそれぞれ所望の線幅となるように、対応する前記所望の各線幅との比をそれぞれ独立的に設定した多種類の設計線幅、を有するパターンを設けたことを特徴とする投影露光用のマスク又はレチクル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 515 F
