特許
J-GLOBAL ID:200903072592630199
合金薄膜の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
有近 紳志郎
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-140290
公開番号(公開出願番号):特開平6-346276
出願日: 1993年06月11日
公開日(公表日): 1994年12月20日
要約:
【要約】【目的】 組成比の制御が容易で製造コストが安価な合金薄膜の製造方法を提供する。【構成】 鉄めっき液を用いて所定の厚さの鉄層を形成し、次にニッケルめっき液を用いて所定の厚さのニッケル層を形成し、これらを繰り返して多層薄膜を形成し、この多層薄膜に熱処理を施すことにより熱拡散せしめ、鉄・ニッケル合金の軟磁性薄膜を製造する。【効果】 めっき時間をコントロールすることにより組成の異なる合金薄膜を容易に製造できる。めっき液の濃度管理の負担が小さく、コストを低減できる。
請求項(抜粋):
少なくとも2種類の単体金属を電気めっきにより導体上へ所定の厚さの比で交互に析出して多層薄膜を形成し、この多層薄膜に熱処理を施すことにより熱拡散せしめ、前記厚さの比に対応する組成比の合金薄膜を製造することを特徴とする合金薄膜の製造方法。
IPC (5件):
C25D 5/10
, C23C 10/28
, C25D 5/50
, C25D 3/12 101
, C25D 3/20
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開平3-170693
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特開平1-104796
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特開昭47-038539
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