露光装置用スペーサ

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：磯野道造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-216491
公開番号（公開出願番号）：特開2001-042543
出願日： 1999年07月30日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：

【要約】【課題】載置テーブルの動作により位置がずれることがなく、また、各作業(整合作業、真空吸着解除作業等)の際にも一定の位置を常に維持して基板とマスクの密着ムラを防止することができる露光装置用スペーサを提供することを課題とする。【解決手段】上焼枠に支持され所定のパターンを有するマスクMと、吸引孔10aを有する載置テーブル10に載置される基板Wとに整合作業または露光作業を行う場合に用いられ、前記基板と前記マスクを真空吸着機構を介して真空密着させる際に、前記基板および前記マスクの密着ムラを防止するためのスペーサであって、前記載置テーブルに載置され、前記基板より厚く形成される補正板2と、この補正板に設けられ、前記載置テーブルの吸引孔に挿入される支持脚3とを有し、前記基板から一定の距離を開けた位置に配置される露光装置用スペーサ1とした。

請求項（抜粋）：

上焼枠に支持され所定のパターンを有するマスクと、吸引孔を有する載置テーブルに載置される基板とに整合作業または露光作業を行う場合に用いられ、前記基板と前記マスクを真空吸着機構を介して真空密着させる際に、前記基板および前記マスクの密着ムラを防止するためのスペーサであって、前記載置テーブルに載置され、前記基板より厚く形成される補正板と、この補正板に設けられ、前記載置テーブルの吸引孔に挿入される支持脚とを有し、前記基板から一定の距離を開けた位置に配置されることを特徴とする露光装置用スペーサ。

IPC (2件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/20 501 , H01L 21/30 505

Fターム (6件)：

2H097GA27 , 5F046BA01 , 5F046CB17 , 5F046CC08 , 5F046CC09 , 5F046CC10

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