特許

J-GLOBAL ID：200903072593008955

ポジ型フオトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  上西 一也 ,  小久保 忠嘉
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-239698
公開番号（公開出願番号）：特開平5-080509
出願日： 1991年09月19日
公開日（公表日）： 1993年04月02日
要約：

【要約】【目的】 特に半導体デバイス等の製造において、高感度で解像力、現像性、耐熱性、レジスト形状に優れたレジストパターンが得られるポジ型フオトレジスト組成物を提供する。【構成】 ポジ型フオトレジスト組成物が、(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)キノンジアジド化合物、及び(c)ポリヒドロキシ化合物の水酸基の少なくとも一部が一般式(I)で表されるスルホニル化剤によりスルホニル化されたアルカリ可溶性低分子化合物を含有する。【化1】

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、キノンジアジド化合物、及びポリヒドロキシ化合物の水酸基の少なくとも一部が一般式(I)で表されるスルホニル化剤によりスルホニル化されたアルカリ可溶性低分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フオトレジスト組成物。【化1】

IPC (3件)：

G03F 7/022 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027