特許
J-GLOBAL ID：200903072602671751
光学素子における表面下の損傷の非破壊評価
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
古谷 聡
, 溝部 孝彦
, 西山 清春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-143503
公開番号（公開出願番号）：特開2005-331515
出願日： 2005年05月17日
公開日（公表日）： 2005年12月02日
要約：
【課題】光学素子の表面下の損傷を非破壊的に評価すること【解決手段】光学素子の表面下の損傷を評価するための非破壊的なプロセスは、光学素子内の点に顕微鏡の焦点を合わせ、反射光の強度を測定する。一実施形態において、顕微鏡は、光学素子内の測定点にレーザビームを集束させ、光学素子の損傷からの反射光または散乱光も収集する。光学素子内の3次元アレイの点に対する反射強度を示すデータを分析することにより、表面下の損傷の位置と重大度が求められ得る。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
光学素子の表面下の損傷を評価するためのプロセスであって、
前記光学素子を照明するステップと、
光学デバイス内にある測定点に、測定装置の焦点を合わせるステップと、
現在の点に焦点を合わせた際に前記測定装置により収集された散乱光の強度を測定するステップと、
前記測定点を変更するステップと、及び
前記光学デバイス内にある一連の点の強度測定値を取得するために、前記測定するステップ及び前記変更するステップを繰り返すステップとを含む、プロセス。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (13件)：
2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051AB06
, 2G051BA04
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BB03
, 2G051BB11
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051DA07
, 2G086EE12
