ナノインプリント用型、装置および方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-265580
公開番号（公開出願番号）：特開2007-081048
出願日： 2005年09月13日
公開日（公表日）： 2007年03月29日
要約：

【課題】パターンを壊すことなく、高速に離型を行うことのできるナノインプリント装置を提供する。【解決手段】パターンが形成されたモールド101を基板104上に配置された応力発光材料を含有した液体もしくは粘性体401に押しつけることでパターン転写を行う装置において内部に有したアクチュエータ102で離型開始点を作る。また、離型時の応力変化によって発生する光を検出する光センサ402を備え離型開始点と離型開始タイミングを検出して、離型動作を制御する。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

パターンが形成された型(モールド)を、基板上に配置された液体、もしくは粘性体に押し付けることでパターン転写を行うための型(モールド)であって、型(モールド)にアクチュエータを内蔵することを特徴とするパターン転写を行うための型。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , B82B 1/00 , B29C 33/24 , B29C 59/02

FI (4件)：

H01L21/30 502D , B82B1/00 , B29C33/24 , B29C59/02 B

Fターム (29件)：

4F202AB01 , 4F202AC05 , 4F202AC06 , 4F202AF01 , 4F202AG05 , 4F202AH33 , 4F202AP20 , 4F202AQ01 , 4F202AR08 , 4F202CA30 , 4F202CB01 , 4F202CK74 , 4F202CM03 , 4F209AA36 , 4F209AA44 , 4F209AC05 , 4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG03 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

USP6309581号公報

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