改良されたチャンバ洗浄の方法および装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長谷川芳樹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-158618
公開番号（公開出願番号）：特開2001-096244
出願日： 2000年05月29日
公開日（公表日）： 2001年04月10日
要約：

【要約】【課題】チャンバ内で基板を処理するための、また堆積した材料をチャンバコンポーネントから洗浄除去するためのシステムが提供される。【解決手段】本処理システム10は、堆積した材料をチャンバコンポーネントから化学的にエッチング除去するための反応ガス種を発生させる反応種発生器と、その反応種に暴露される少なくとも一つのフッ素重合体被覆されたコンポーネントを有するプロセスチャンバ11とを含む。チャンバ洗浄効率に最も大きな影響を与えるためには、フッ素重合体被覆されたコンポーネントは反応種に暴露される表面積の大きなパーセンテージを構成するように、ガス分配プレート12またはバッキングプレート13といった大きなコンポーネントおよび/または複数のより小さなコンポーネント(例えばシャドーフレーム31、チャンバ壁ライナ29、サセプタ14、ガス伝導ライン)であることが好ましい。最も好ましいのは、反応種が接触するすべての表面がフッ素重合体で被覆されていることである。

請求項（抜粋）：

ガスがプロセスチャンバに流入するようにガスを分配するガス分配プレートであって、複数の開口が形成されているベースと、前記ベース材料の上に連続的に形成されたフッ素重合体被膜とを備えたガス分配プレート。

IPC (3件)：

B08B 7/00 , B08B 9/08 , H01L 21/3065

FI (3件)：

B08B 7/00 , B08B 9/08 , H01L 21/302 C

Fターム (21件)：

3B116AA33 , 3B116AB53 , 3B116BB62 , 3B116BB77 , 3B116BB89 , 3B116CD11 , 5F004AA13 , 5F004AA15 , 5F004BA04 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BB18 , 5F004BB30 , 5F004BC08 , 5F004DA00 , 5F004DA01 , 5F004DA02 , 5F004DA05 , 5F004DA16 , 5F004DA17 , 5F004DA18

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