特許

J-GLOBAL ID：200903072617524488

浄化システム

発明者： 池田 穂高 ,  伊藤 健一 ,  福士 圭介 ,  佐藤 努 ,  金森 進 ,  倉本 富男 ,  成田 和仁
出願人/特許権者： 株式会社ソフィア ,  守谷鋼機株式会社
代理人 (2件)： 高橋 隆二 ,  元井 成幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-405475
公開番号（公開出願番号）：特開2005-161231
出願日： 2003年12月04日
公開日（公表日）： 2005年06月23日
要約：

【課題】シュベルトマナイト等の汚染物の吸着材を有効に利用し、効率的に且つ高レベルに汚染水等を浄化することができる。【解決手段】一方の側面から複数の凹部が形成され、各凹部の底に他方の側面へ貫通する小穴が形成されている基体を用い、汚染物の吸着材としてシュベルトマナイトを収容した通水フィルターを所要の凹部内に設けると共に、基体を保持する保持器具を水中に設置し、前記基体を保持器具に着脱自在に係入して、凹部の開口側を水流の略上流側に向け且つ小穴側を水流の略下流側に向けて基体を水中に配設する浄化システムであって、凹部内に滞留する汚染水のヒ素やリン酸等をシュベルトマナイトで吸着除去する。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

一方の側面から複数の凹部が形成され、各凹部の底に他方の側面へ貫通する小穴が形成されている基体を用い、汚染物の吸着材を収容した通水フィルターを所要の凹部内に設け、凹部の開口側を水流の略上流側に向け且つ小穴側を水流の略下流側に向けて基体を水中に配設することを特徴とする浄化システム。

IPC (2件)：

C02F1/28 ,  B01J20/02

FI (3件)：

C02F1/28 F ,  C02F1/28 B ,  B01J20/02 A

Fターム (12件)：

4D024AA04 ,  4D024AA05 ,  4D024AB12 ,  4D024AB16 ,  4D024BA14 ,  4D024BB01 ,  4D024BC01 ,  4D024CA01 ,  4G066AA11B ,  4G066CA41 ,  4G066CA46 ,  4G066DA08