特許
J-GLOBAL ID:200903072622485229

精密エッチング及びコーティング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-528811
公開番号(公開出願番号):特表2001-507165
出願日: 1997年12月10日
公開日(公表日): 2001年05月29日
要約:
【要約】1つの真空室内で標本をエッチング及びコーティングして、これにより、標本の取り扱い及び搬送を最小限にする装置が提供される。この装置は、密封した室と、この室内で真空を形成且つ維持する真空ポンプと、この室内に配置されて標本をエッチングする第1のイオンガンと、前記室内のスパッタ用ターゲットと、前記室内に配置されて前記ターゲットからの材料を標本へ指向させる少なくとも1つの追加のイオンガンとを含む。
請求項(抜粋):
標本を精密エッチング及びコーティングする装置であって、室内に真空を形成し且つ維持する真空源に連通した室、標本ホルダー、該標本がそこを介して装填且つ取り出される前記室内のエアロック、前記室内に配置されて前記標本ホルダーに装着された標本をエッチングする第1のイオンガン、前記室内のスパッタ用ターゲット、及び前記室内に配置されて前記ターゲットからの材料を前記標本状へ向ける少なくとも1つの追加のイオンガンを備えることを特徴とする装置。
IPC (4件):
H01J 37/305 ,  C23C 14/46 ,  C23F 4/00 ,  H01J 37/317
FI (4件):
H01J 37/305 A ,  C23C 14/46 B ,  C23F 4/00 C ,  H01J 37/317 E

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