特許

J-GLOBAL ID：200903072628642474

段差測定方法とその装置、および半導体装置の製造方法

発明者： 益川 和之 ,  津村 明
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 大胡 典夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-235530
公開番号（公開出願番号）：特開2002-048519
出願日： 2000年08月03日
公開日（公表日）： 2002年02月15日
要約：

【要約】【課題】 測定対象面積が小さいウエハを含むような、多品種のウエハを測定するような場合でも、それらのウエハのいずれに対しても精度良くエッチング溝の深さを算出できるエッチン深さ測定方法とその装置、および、半導体装置の製造方法を提供すること。【解決手段】 光源25a、25b...25nからのスポット光の被測定体(ウエハ1)への照射位置をアレイレンズ23のアレイ位置により規定する。

請求項（抜粋）：

光源からの光を被測定体の段差に複数のスポット光として照射する照射工程と、この照射工程により照射された前記光の反射光を受光する受光工程と、この受光工程により受光された前記反射光の干渉波形に基づいて前記段差の深さを算出する演算工程とを有することを特徴とする段差測定方法。

IPC (3件)：

G01B 11/22 ,  G01B 9/02 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

G01B 11/22 G ,  G01B 9/02 ,  H01L 21/302 E

Fターム (30件)：

2F064AA09 ,  2F064FF00 ,  2F064GG02 ,  2F064GG47 ,  2F064HH02 ,  2F064HH07 ,  2F065AA25 ,  2F065BB02 ,  2F065BB18 ,  2F065CC20 ,  2F065EE00 ,  2F065FF51 ,  2F065HH04 ,  2F065HH13 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ09 ,  2F065JJ25 ,  2F065LL03 ,  2F065LL04 ,  2F065LL10 ,  2F065LL12 ,  2F065QQ42 ,  5F004BA04 ,  5F004BB18 ,  5F004CB10 ,  5F004CB16 ,  5F004DB00 ,  5F004EA01 ,  5F004EB02 ,  5F004FA08