特許

J-GLOBAL ID：200903072634440522

マスク、マスク支持方法、マスク支持機構、並びにこれを用いた露光装置やデバイス製造方法

発明者： 原 真一 ,  千葉 裕司 ,  水澤 伸俊
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-007421
公開番号（公開出願番号）：特開平7-307285
出願日： 1995年01月20日
公開日（公表日）： 1995年11月21日
要約：

【要約】【目的】 マスクパターンに及ぼす歪みが極めて小さいマスク支持方法やマスクチャックを提供すること。【構成】 矩形状のマスクフレーム1の外枠のメンブレン3の中心線からの距離のほぼ等しい3点(5-1、5-2、5-3)でマスクフレーム1をx,y,θ方向に位置決めする。そして、これら3点のうちの2点と対向するマスクフレームの外枠の2つの位置を押圧機構(6-1、6-2)によって押圧して固定する。z方向については、マスクフレーム1の裏面の3点(7-1、7-2、7-3)でマスクフレーム1を支持する。

請求項（抜粋）：

マスクフレームと、該マスクフレームの内側に設けられた矩形状の窓と、該窓とほぼ同一形状及び大きさを持ったX線透過部を有するメンブレンと、該マスクメンブレン上に形成されたパターンを有することを特徴とするマスク。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14 ,  G03F 1/16 ,  G03F 9/00

FI (2件)：

H01L 21/30 531 M ,  H01L 21/30 531 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開平4-216612
  
• 特開昭64-033927
  
• 特開昭60-160618
  
• 特開平3-034309
  

審査官引用 (4件)

• 特開平4-216612
  
• 特開昭64-033927
  
• 特開昭60-160618
  
• 特開平3-034309