特許

J-GLOBAL ID：200903072643020056

湿潤シリカゲルの乾燥方法

発明者： 橋田 卓 ,  鈴木 正明
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石井 和郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-352352
公開番号（公開出願番号）：特開2001-163614
出願日： 1999年12月10日
公開日（公表日）： 2001年06月19日
要約：

【要約】【課題】 孔中に水を保持する湿潤シリカゲルを、収縮を押さえて乾燥シリカゲルとするには、シリル化剤による疎水化処理工程が必要であった。その際、疎水化処理工程の前工程として、シリル化剤が相溶性を有する溶媒に置換する工程が余分に必要となり、工程が複雑で、時間を要していた。【解決手段】 溶媒置換工程を経ずに、水溶性の有機溶媒にシリル化剤を溶解させた水を含む液体中で、湿潤シリカゲルのシラノール基にシリル化剤を作用させ、臨界点未満の温度、圧力条件で乾燥を行うことにより、余分な工程を設けなくても、収縮を押さえた低密度の乾燥シリカゲルを得る。

請求項（抜粋）：

水を保持する湿潤シリカゲルの乾燥方法であって、(a)前記湿潤シリカゲルを水溶性溶媒中におけるシリル化によって疎水化する工程、および(b)前記湿潤シリカゲルを、前記湿潤ゲルが保持する液体の臨界点未満の温度および圧力雰囲気下で乾燥する工程を有することを特徴とする湿潤シリカゲルの乾燥方法。

IPC (2件)：

C01B 33/16 ,  C01B 33/158

FI (2件)：

C01B 33/16 ,  C01B 33/158

Fターム (27件)：

4G072AA28 ,  4G072BB05 ,  4G072CC07 ,  4G072CC08 ,  4G072CC10 ,  4G072GG03 ,  4G072HH19 ,  4G072HH21 ,  4G072HH29 ,  4G072HH30 ,  4G072JJ11 ,  4G072JJ13 ,  4G072JJ38 ,  4G072LL06 ,  4G072LL07 ,  4G072LL11 ,  4G072MM01 ,  4G072MM14 ,  4G072MM31 ,  4G072PP05 ,  4G072PP14 ,  4G072QQ07 ,  4G072RR05 ,  4G072RR06 ,  4G072RR12 ,  4G072UU17 ,  4G072UU30