レーザ描画装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：深見久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-176789
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037775
出願日： 1993年07月16日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：

【要約】【目的】断面形状と寸法において改善された精度を有するレーザビームによって微細なパターンを高精度で描き得るレーザ描画装置を提供する。【構成】レーザ描画装置は、光源(100)と集光光学系(101,102)と、ビーム成形部材(10A)と、投影光学系(104,105)と、被露光基板保持部材(107)とを備え、ビーム成形部材は、少なくとも2枚のブラインド(11a,11b,11c,11d)を含み、それらのブラインドは空間フィルタ(12a〜12d,13a〜13d,14a〜14d)を含んでおり、被露光基板上の露光領域はブラインドの相対的位置を制御することによって決定される。

請求項（抜粋）：

光源と、集光光学系と、ビーム成形部材と、投影光学系と、被露光基板保持部材とを備え、前記ビーム成形部材は2枚のブラインドを含み、それらのブラインドは空間フィルタを含み、前記被露光基板上の露光領域は前記2枚のブラインドの相対的位置を制御することによって決定されることを特徴とするレーザ描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G02B 27/09 , G03F 1/08 , G03F 7/20 505 , H01S 3/00

FI (3件)：

H01L 21/30 529 , G02B 27/00 E , H01L 21/30 515 B

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