特許

J-GLOBAL ID：200903072645203395

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 藤森 亨 ,  丹 史郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-142160
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330286
出願日： 1999年05月21日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
要約：

【要約】【課題】耐ドライエッチング性に優れ、裾引きが良好なパターンプロファイル形状を与え、かつ表面ざらつきが実質的に生じない高感度で高解像力の化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】(a)特定の基を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物が提供される。

請求項（抜粋）：

(a)下記一般式(I)で示される基を含有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式(I)中、R1、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、又は炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、Xは-S-、-N(R4)-、-Se-、-CO-、-COO-、-SO-、又は-SO2 -を表し(ここで、R4は水素原子又は炭素数1〜4のアルキル基を表す)、R3は置換基を有してもよい鎖状アルキル基、置換基を有してもよい環状アルキル基、置換基を有してもよいアリール基、又は置換基を有してもよいアラルキル基を表す。)

IPC (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (21件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA18 ,  2H025AB08 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB52 ,  2H025FA17