特許

J-GLOBAL ID：200903072649139950

ベストフォーカス位置の検出方法

発明者： 入江 信行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-241652
公開番号（公開出願番号）：特開平9-082620
出願日： 1995年09月20日
公開日（公表日）： 1997年03月28日
要約：

【要約】【課題】 焦点計測用マークの大きさを高い精度で求める。【解決手段】 投影光学系(PL)のベストフォーカス位置を決定するために感光基板上に露光された計測用パターン像(M)の大きさ(L)を求めるに際して、まず、基坂上の計測用パターン像を検出するパターン検出系の出力信号を複数のスライスレベルでスライスし(S108)、各スライスレベルにおける前記計測用パターン像の大きさを求める(S109)。次いで、求めた計測用パターン像の大きさをスライスレベルを変数とする関数で近似し(S110)、この近似関数に基づいて計測用パターン像の大きさを算出する(S111)。この結果、検出信号に乗るノイズの影響を軽減でき、高い精度で計測用パターンの像の大きさを求めることができる。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンの像を所定面上に投影する投影光学系の光軸方向の複数の位置の各々に感光性の基板を配置して計測用パターンの像を投影し、前記基坂上に形成された複数の計測用パターン像の大きさに基づいて、前記投影光学系のベストフォーカス位置を検出する方法において、前記基坂上の前記計測用パターン像を検出するパターン検出系の出力信号を複数のスライスレベルでスライスし、各スライスレベルにおける前記計測用パターン像の大きさを求める第1工程と;前記第1工程で求められた前記計測用パターン像の大きさを前記スライスレベルを変数とする関数で近似し、該近似された関数に基づいて前記計測用パターン像の大きさを算出する第2工程とを含むことを特徴とするベストフォーカス位置の検出方法。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G01B 11/00 ,  G02B 7/28 ,  G03B 13/36 ,  G03F 7/207 ,  G03F 9/02

FI (8件)：

H01L 21/30 502 G ,  G01B 11/00 H ,  G03F 7/207 H ,  G03F 9/02 H ,  G02B 7/11 M ,  G03B 3/00 A ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 526 A