特許
J-GLOBAL ID:200903072649350295

生体高分子モデル生成装置及びプログラム記録媒体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡田 光由 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-367353
公開番号(公開出願番号):特開2001-184376
出願日: 1999年12月24日
公開日(公表日): 2001年07月06日
要約:
【要約】【課題】本発明は、既知の生体高分子のモデルから、それの同種二量体や異種二量体のモデルを生成する生体高分子モデル生成装置の提供を目的とする。【解決手段】既知生体高分子モデルの持つ接触部位に処理点を設定する設定手段と、その処理点を通過する任意方向の複数の直線を作成する作成手段と、それらの各直線を対称軸として、既知生体高分子モデルに対称となる立体構造を算出する算出手段と、それらの立体構造の規定する生体高分子モデルの中から、既知生体高分子モデルとの間で立体障害を起こすものを排除しつつ、接触部位とそれに対応する生体高分子モデルの位置との間の距離が最小又はそれに近いものを特定することで、既知生体高分子の同種二量体モデルを生成する生成手段とを備えるように構成する。そして、生成手段は、その特定した生体高分子モデルを置換処理を施すことで既知生体高分子の異種二量体モデルを生成する。
請求項(抜粋):
既知の生体高分子モデルから特定の生体高分子モデルを生成する生体高分子モデル生成装置であって、既知生体高分子モデルの持つ接触部位に処理点を設定する設定手段と、上記処理点を通過する任意方向の複数の直線を作成する作成手段と、上記各直線を対称軸として、既知生体高分子モデルに対称となる立体構造を算出する算出手段と、上記立体構造の規定する生体高分子モデルの中から、既知生体高分子モデルとの間で立体障害を起こすものを排除しつつ、上記接触部位とそれに対応する該生体高分子モデルの位置との間の距離が最小又はそれに近いものを特定することで、既知生体高分子の同種二量体モデルを生成する生成手段とを備えることを、特徴とする生体高分子モデル生成装置。
IPC (4件):
G06F 17/50 ,  C12M 1/34 ,  G01N 33/50 ,  G01N 33/68
FI (4件):
C12M 1/34 Z ,  G01N 33/50 Z ,  G01N 33/68 ,  G06F 15/60 638
Fターム (13件):
2G045AA40 ,  2G045DA36 ,  2G045JA01 ,  2G045JA07 ,  4B029AA07 ,  4B029FA15 ,  5B046AA00 ,  5B046DA02 ,  5B046FA07 ,  5B046FA12 ,  5B046FA18 ,  5B046GA01 ,  5B046KA05

前のページに戻る