特許

J-GLOBAL ID：200903072651005392

ウエハ検査前処理方法及び処理装置

発明者： 西片 安勝 ,  中澤 孝夫 ,  石井 建至 ,  大月 和文 ,  今村 工
出願人/特許権者： 日曹エンジニアリング株式会社 ,  エヌエスイー・テック株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-156835
公開番号（公開出願番号）：特開2003-344243
出願日： 2002年05月30日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：

【要約】【課題】 分析精度を向上し、装置の小型化や制御の簡略化等も可能にする。【解決手段】 検査対象であるシリコンウエハWの表面にフッ酸を滴下する液滴下工程と、前記滴下された液滴に前記シリコンウエハ表面の自然酸化膜等を溶かして取り込む集液工程と、前記取り込んだ液滴を汚染度測定用試料として当該シリコンウエハから回収する回収工程とを経るウエハ検査前処理方法において、前記液滴下工程で使用されるフッ酸を容器から吸引し、前記シリコンウエハ表面に滴下するノズルと、該滴下された液滴を捉えて当該シリコンウエハ表面をスキャンするノズルと、該スキャン後の液滴を分析試料用として吸引回収するノズルとを同じ共通ノズル2を使用して、当該共通ノズル2を、ノズル保持・移動機構4により支持した状態で前記各工程に自動移送し、かつ検査対象のシリコンウエハ毎に新たな共通ノズルと交換することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

検査対象であるシリコンウエハの表面にフッ酸を滴下する液滴下工程と、前記滴下された液滴に前記シリコンウエハ表面の自然酸化膜等を溶かして取り込む集液工程と、前記取り込んだ液滴を汚染度測定用試料として当該シリコンウエハから回収する回収工程とを経るウエハ検査前処理方法において、前記液滴下工程で使用されるフッ酸を容器から吸引し、前記シリコンウエハ表面に滴下するノズルと、該滴下された液滴を捉えて当該シリコンウエハ表面をスキャンするノズルと、該スキャン後の液滴を分析試料用として吸引回収するノズルとを同じ共通ノズルを使用して、当該共通ノズルを、ノズル保持・移動機構により支持した状態で前記各工程に自動移送し、かつ検査対象のシリコンウエハ毎に新たな共通ノズルと交換することを特徴とするウエハ検査前処理方法。

IPC (4件)：

G01N 1/28 ,  G01N 1/00 101 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/66

FI (4件)：

G01N 1/00 101 K ,  H01L 21/66 Q ,  G01N 1/28 X ,  H01L 21/306 J

Fターム (46件)：

2G052AA13 ,  2G052AB01 ,  2G052AB26 ,  2G052AB27 ,  2G052AD26 ,  2G052AD46 ,  2G052AD52 ,  2G052CA03 ,  2G052CA08 ,  2G052CA19 ,  2G052CA21 ,  2G052CA23 ,  2G052CA24 ,  2G052CA28 ,  2G052CA32 ,  2G052CA45 ,  2G052EB01 ,  2G052EB11 ,  2G052FD18 ,  2G052GA19 ,  2G052GA24 ,  2G052HA03 ,  2G052HB04 ,  2G052HB08 ,  2G052HB09 ,  2G052JA01 ,  2G052JA03 ,  2G052JA07 ,  2G052JA08 ,  2G052JA09 ,  2G052JA11 ,  2G052JA16 ,  4M106AA01 ,  4M106AA13 ,  4M106BA20 ,  4M106CB01 ,  4M106CB30 ,  4M106DH34 ,  4M106DH55 ,  5F043AA02 ,  5F043AA31 ,  5F043BB22 ,  5F043EE27 ,  5F043EE29 ,  5F043EE33 ,  5F043EE36