特許

J-GLOBAL ID：200903072656080910

基板処理装置

発明者： 今西 保夫 ,  大谷 正美 ,  渋川 潤
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-308600
公開番号（公開出願番号）：特開平11-145239
出願日： 1997年11月11日
公開日（公表日）： 1999年05月28日
要約：

【要約】【課題】 カセットからの基板の飛び出しを防止する基板処理装置を提供する。【解決手段】 隔壁12の開口部12aを塞ぐためのシャッター部材5に当接部材8を装着する。カセットステージ2に載置されたカセット1に向けて、当接部材8を移動させることで、カセット1から飛び出している基板Wに当接部材を当接させる。さらに、当接部材8をカセット1に向けて前進させて、この基板Wをカセット1内に押し込む。その結果、カセット1内の全ての基板Wは、カセット1から飛び出すことなく整列するので、基板Wの飛び出しに起因する装置の停止を防止することができ、処理効率を向上することができる。

請求項（抜粋）：

複数枚の基板を収納するカセットから基板搬送機構によって基板を取り出し、この基板に所定の処理を行う基板処理装置において、前記カセットを載置する載置部と、前記載置部に載置されたカセットに収納されている複数枚の基板の端面に当接させる当接部材と、前記載置部に載置されたカセットと前記当接部材とを相対移動させて、前記当接部材をカセットに収納されている複数枚の基板の端面に当接させる相対移動機構とを備えたことを特徴とする基板処理装置。