クロロメチルスチレン類の工業的製造法

発明者： , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：成瀬勝夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-248786
公開番号（公開出願番号）：特開2001-072619
出願日： 1999年09月02日
公開日（公表日）： 2001年03月21日
要約：

【要約】【課題】液相法により高純度のクロロメチルスチレン類を高収率で製造することができるクロロメチルスチレン類の工業的製造法を提供する。【解決手段】メチルスチレン類に塩化水素を付加させてα-クロロエチルトルエン類を製造する塩化水素付加工程と、この塩化水素付加工程で得られたα-クロロエチルトルエン類のメチル基を塩素化してα-クロロエチルベンジルクロライド類を製造するメチル基塩素化工程と、このメチル基塩素化工程で得られたα-クロロエチルベンジルクロライド類をクロロメチルスチレン類の蒸留条件下で加熱脱塩化水素してクロロメチルスチレン類を留出せしめる加熱脱塩化水素工程とを含み、また、必要により重合防止剤存在下の精留工程を有するクロロメチルスチレン類の工業的製造法である。

請求項（抜粋）：

メチルスチレン類に塩化水素を付加させてα-クロロエチルトルエン類を製造する塩化水素付加工程と、この塩化水素付加工程で得られたα-クロロエチルトルエン類のメチル基を塩素化してα-クロロエチルベンジルクロライド類を製造するメチル基塩素化工程と、このメチル基塩素化工程で得られたα-クロロエチルベンジルクロライド類をクロロメチルスチレン類の蒸留条件下で加熱脱塩化水素してクロロメチルスチレン類を留出せしめる加熱脱塩化水素工程とを含むことを特徴とするクロロメチルスチレン類の工業的製造法。

IPC (4件)：

C07C 17/10 , C07B 61/00 , C07C 17/383 , C07C 22/04

FI (4件)：

C07C 17/10 , C07B 61/00 D , C07C 17/383 , C07C 22/04

Fターム (12件)：

4H006AA02 , 4H006AC30 , 4H006BA94 , 4H006BA95 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BC40 , 4H006BD40 , 4H006BD52 , 4H006BD70 , 4H006BE01 , 4H006EA21

引用特許：

出願人引用 (8件)

特開昭62-138442
特開昭59-080624
特開昭49-000230

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審査官引用 (16件)

特開昭62-138442
特開昭62-138442
特開昭59-080624

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