特許
J-GLOBAL ID:200903072671070972
3次元測定モジュール
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
江崎 光史 (外3名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-585625
公開番号(公開出願番号):特表2002-531818
出願日: 1999年11月16日
公開日(公表日): 2002年09月24日
要約:
【要約】本発明による3次元測定モジュールにおいては、立体的に走査プレートを介して光学チップが、また光学チップを介して信号処理構造グループが設けられる。走査プレートと共にケースが、光学チップ及び信号処理構造グループを完全に取り囲む。光学チップと信号処理構造グループとの間の電気の結合伝導部は、走査プレート及びケースの内面を介して信号処理構造グループへと導かれる。信号処理構造グループの出力信号は、ケースの外面における結合伝導部を介して接点へと導かれ、これらの接点に、測定システムの伝達部が接触させられる。測定モジュールのこの3次元構造によって、伝導部、特に光学チップと信号処理構造グループとの間の伝導部が、非常に短く維持され、これにより伝導部抵抗及び外乱との結合が減少する。
請求項(抜粋):
立体的に走査プレート(2)を介して光電子構造グループ(3)が、また立体的に光電子構造グループ(3)を介して信号処理ユニット(4)が設けられている3次元測定モジュールにおいて、 保護キャップ(5)が、走査プレート(2)と協働して、光電子構造グループ(3)及び信号処理ユニット(4)を本質的に含むように設けられており、これにより3次元測定モジュールが形成されるように構成されていることを特徴とする3次元測定モジュール。
IPC (4件):
G01D 5/36
, G01B 11/00
, G01B 11/02
, H01L 31/12
FI (4件):
G01D 5/36 T
, G01B 11/00 A
, G01B 11/02 Z
, H01L 31/12 E
Fターム (25件):
2F065AA04
, 2F065AA21
, 2F065AA31
, 2F065DD02
, 2F065JJ18
, 2F103CA03
, 2F103DA01
, 2F103EA02
, 2F103EA15
, 2F103EA17
, 2F103EA19
, 2F103EB06
, 2F103EB08
, 2F103EB12
, 2F103EB16
, 2F103EB32
, 2F103ED01
, 2F103GA01
, 2F103GA16
, 5F089BA02
, 5F089BB02
, 5F089BC02
, 5F089BC11
, 5F089CA06
, 5F089FA06
引用特許:
出願人引用 (2件)
-
位置検出方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-175286
出願人:三菱電機株式会社
-
光半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-284192
出願人:オリンパス光学工業株式会社
審査官引用 (2件)
-
位置検出方法及びその装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-175286
出願人:三菱電機株式会社
-
光半導体装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-284192
出願人:オリンパス光学工業株式会社
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