特許

J-GLOBAL ID：200903072677243640

描画装置

発明者： 浅野 伸
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 坂間 暁 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-223212
公開番号（公開出願番号）：特開平8-088161
出願日： 1994年09月19日
公開日（公表日）： 1996年04月02日
要約：

【要約】【目的】 レーザ、電子ビーム、等の加工ビームを加工物に照射し、パターンを描画する装置に関し、加工幅を高精度に制御する。【構成】 加工用光源1からの加工ビーム20は強度補正手段2で補正され、ビーム径可変手段3でビーム径をWに変化させ、集光レンズ5に入射し、ビーム23となって加工物6にビーム径W0 で集光する。加工物6はステージ17に搭載されX-Y方向に駆動しパターンを描く。ビーム径検出手段4でビーム径Wを検出し、演算手段7でビーム径W0 での中心強度I0 を演算し、中心強度が一定となるように補正司令値31を出力し、強度補正手段2で全強度を補正する。ビーム径可変手段3によりビーム径W0 を比例的に変化させて高精度の制御ができる。

請求項（抜粋）：

加工物をステージに搭載し、加工用光源から出射した加工ビームを集光レンズにより同加工物表面上で合焦させると共に前記ステージを移動することにより合焦した加工ビームと同加工物とを相対的に移動させて同加工物表面上にパターンを描画する描画装置において、前記集光レンズに入射する前記加工ビームのビーム径を取込み、所定のビーム径に変化させ、同集光レンズに入射させるビーム径可変手段と、同ビーム径可変手段を通過後の変化した加工ビームのビーム径を検出するビーム径検出手段と、同ビーム径検出手段によって検出されたビーム径に基づいて前記加工物表面に合焦された加工ビームの中心強度を演算し、中心強度を一定にするような補正司令値を出力する演算手段と、同演算手段によって演算された前記中心強度の補正司令値に基づいて前記加工ビームの全強度を補正する強度補正手段とを備えてなる事を特徴とする描画装置。

IPC (5件)：

H01L 21/027 ,  B23K 26/00 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 505 ,  H05K 3/06