特許
J-GLOBAL ID：200903072679751553
積層薄膜製造装置及び積層薄膜製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-217313
公開番号（公開出願番号）：特開平10-060639
出願日： 1996年08月19日
公開日（公表日）： 1998年03月03日
要約：
【要約】【課題】本発明の課題は、基板の移動速度を任意に制御し得、短時間で成膜し得る積層薄膜製造装置及び積層薄膜製造方法を提供することにある。【解決手段】本発明は、基板29が蒸着源23,26に近づくまでは基板29の回転速度を早めとし、基板29の最前部が蒸着源23,26にさしかかった場合、蒸着源23,26の上部に設けられたシャッター24,27を開けると共に基板29の回転速度を蒸着源23,26に適した速度に切り替え、基板29の最後部が蒸着源23,26を通過した場合、蒸着源23の上部に設けられたシャッター24,27を閉じると共に基板29の回転速度を増速させる一連の工程を、所望の積層薄膜となるまで各蒸着源23,26ごとに繰り返すことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
ガス導入系及び排気系を有する真空室、この真空室内に設けられた複数の蒸着源、この各蒸着源に対応しその概略上部に併設して設けられた複数のシャッター、この各シャッターの開閉を行うための複数のシャッター駆動源、前記蒸着源に対向して配置された複数の基板、この各基板を搭載するための基板ホルダー、この基板ホルダーに取り付けられた回転駆動軸、この回転駆動軸を駆動させるため前記真空室外に設けられた回転駆動モーター、この回転駆動モーターを制御するための制御部とから成る回転駆動型の積層薄膜製造装置において、前記回転駆動軸に取り付けられた検出部と、この検出部の回転位置を検出するための光検出センサーと、この光検出センサーからの信号を前記制御部に伝達するための伝達経路とを設けたことを特徴とする積層薄膜製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C23C 14/34 U
, C23C 28/00 Z
