特許

J-GLOBAL ID：200903072683303190

感放射線組成物、パタン形成方法およびこれを用いた位相シフトマスクの製造方法

発明者： 逆水 登志夫 ,  新井 唯 ,  加藤 幸治 ,  粕谷 圭 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 作田 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-319031
公開番号（公開出願番号）：特開2001-133967
出願日： 1999年11月10日
公開日（公表日）： 2001年05月18日
要約：

【要約】【課題】感度、解像度、パタン形状に優れた感放射線組成物およびこれを用いたパタン形成方法を提供する。【解決手段】(a)特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルキルスルホニルハライド、または特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルコキシアルキルスルホニルハライドから誘導されるスルホン酸エステルおよび(b)酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体を少なくとも含む感放射線組成物。

請求項（抜粋）：

(a)特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルキルスルホニルハライド、または特性基としてフッ素原子を有する炭素数が4から8までのアルコキシアルキルスルホニルハライドから誘導されるスルホン酸エステルおよび(b)酸を触媒とする反応によりアルカリ水溶液に対する溶解性を変化させる反応性を持った媒体を少なくとも含むことを特徴とする感放射線組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/004 503 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

FI (6件)：

G03F 7/004 503 A ,  G03F 1/08 A ,  G03F 7/38 501 ,  G03F 7/38 511 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 P

Fターム (33件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB08 ,  2H025AB16 ,  2H025AB20 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H025FA41 ,  2H095BB03 ,  2H095BB10 ,  2H095BB15 ,  2H095BB16 ,  2H095BB38 ,  2H095BC01 ,  2H096AA24 ,  2H096AA25 ,  2H096AA30 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096FA01 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  2H096HA23