特許
J-GLOBAL ID:200903072686680874

投射器および偏向ミラーを備えた投射機構

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 恩田 博宣 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-581503
公開番号(公開出願番号):特表2002-529796
出願日: 1999年11月04日
公開日(公表日): 2002年09月10日
要約:
【要約】本発明は、投射器(10)および偏向ミラー(11)を備えた投射機構であって、投射方向から投射主軸線(5)に沿って進行する画像投射は、2つの空間的方向において可動的に支持された偏向ミラー(11)であってそのミラー表面は投射光束(22)を床(4)上に立設された投射面(9)へと所定仰角および所定方位角にて偏向する偏向ミラー(11)上に衝当する投射機構に関する。画像投射は天頂(2)からの鉛直線に関して60°より小さな角度βにて天頂(2)の方向から行われる。上記偏向ミラー(11)は上記床(4)に配置される。上記投射光束(22)は、画像(6)が上記投射面(9)上に生成されて該投射面(9)上を移動され得る如く、上記投射面(9)に向けて偏向され得る。
請求項(抜粋):
投射器(10)および偏向ミラー(11)を備えた投射機構であって、 投射方向から投射主軸線(5)に沿って進行する画像投射は、2つの空間的方向において可動的に支持された偏向ミラー(11)であってそのミラー表面は投射光束(22)を床(4)上に立設された投射面(9)へと所定仰角および所定方位角にて偏向する偏向ミラー(11)上に衝当し、 画像投射は天頂(2)からの鉛直線に関して60°より小さな角度βにて天頂(2)の方向から行われると共に、上記偏向ミラー(11)は上記床(4)に配置され、 上記投射光束(22)は、画像(6)が上記投射面(9)上に生成されて該投射面(9)上を移動され得る如く、上記投射面(9)に向けて偏向され得る、投射機構。
IPC (4件):
G03B 21/00 ,  G03B 21/28 ,  G03B 21/56 ,  G09B 27/00
FI (4件):
G03B 21/00 D ,  G03B 21/28 ,  G03B 21/56 A ,  G09B 27/00 B
Fターム (2件):
2C032EB01 ,  2H021AA08
引用特許:
審査官引用 (2件)
  • 極座標走査式球面投影装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-190938   出願人:株式会社セガ・エンタープライゼス
  • 特開昭55-113082

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