特許
J-GLOBAL ID：200903072689240930
半導体製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
油井 透 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-074082
公開番号（公開出願番号）：特開2000-269303
出願日： 1999年03月18日
公開日（公表日）： 2000年09月29日
要約：
【要約】【課題】 安定してガス流量を制御する。【解決手段】 反応室1と、ロードロック室11と、仕切弁13と、ガス供給通路3、23及び排気通路4、24と、反応室1とロードロック室11の差圧を検出する差圧センサ25と、反応室1とロードロック室11の差圧を調節する差圧調節手段として機能するガス流量コントローラ27と、差圧センサ25の出力に基づいて反応室1とロードロック室11の差圧が所定値となるような制御値をガス流量コントローラ27に入力する制御装置26とを備える。更に、仕切弁13の開閉状態を検出する開閉センサ30を備え、制御装置26が、開閉センサ30により仕切弁13が開いていることが検出されているときは、差圧センサ25の出力に基づく制御値の代わりに、仕切弁13が開く直前の制御値をガス流量コントローラ27に入力する。
請求項（抜粋）：
反応室と、該反応室に連設されたロードロック室と、反応室とロードロック室とを仕切る開閉可能な仕切弁と、反応室とロードロック室に対してそれぞれガスを導入・排気するガス導入・排気手段と、反応室とロードロック室の差圧を検出する差圧センサと、反応室とロードロック室の差圧を調節する差圧調節手段と、前記差圧センサの出力に基づいて反応室とロードロック室の差圧が所定値となるような制御値を前記差圧調節手段に入力する制御装置とを備えた半導体製造装置において、前記仕切弁の開閉状態を検出する開閉センサを備え、前記制御装置が、前記開閉センサにより仕切弁が開いていることが検出されているときは、前記差圧センサの出力に基づく制御値の代わりに、仕切弁が開く直前の制御値を前記差圧調節手段に入力することを特徴とする半導体製造装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 A
, H01L 21/205
5F031CA02
, 5F031JA47
, 5F031MA28
, 5F031NA07
, 5F031PA26
, 5F045BB15
, 5F045DP19
, 5F045DQ05
, 5F045EB08
, 5F045EB12
, 5F045EE04
, 5F045EE14
, 5F045GB06
