特許
J-GLOBAL ID：200903072689610303
ガラス基板への密着性の優れた窒化膜形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
植木 久一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-122846
公開番号（公開出願番号）：特開平7-331411
出願日： 1994年06月03日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 イオン注入法を巧みに適用することによって、ガラス基板と窒化膜との密着性を更に改善することのできる様な窒化膜形成方法を提供する。【構成】 真空雰囲気中でガラス基板表面に金属元素をイオン注入する工程、および真空雰囲気中でガラス基板の表面に窒化膜を形成する工程を含む。具体的には、真空雰囲気中でガラス基板表面に金属元素をイオン注入した後、真空雰囲気中でガラス基板の表面に窒化膜を形成するか、または真空雰囲気中でガラス基板表面に窒化膜を形成した後、真空雰囲気中でガラス基板の表面に金属元素をイオン注入する。
請求項（抜粋）：
真空雰囲気中でガラス基板表面に金属元素をイオン注入する工程、および真空雰囲気中でガラス基板表面に窒化膜を形成する工程を含むことを特徴とするガラス基板への密着性の優れた窒化膜形成方法。
IPC (2件)：
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