特許

J-GLOBAL ID：200903072698241795

スタンパ製造方法及び光記録媒体製造方法

発明者： 石原 渉
出願人/特許権者： 日本コロムビア株式会社
代理人 (1件)： 林 實
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-103005
公開番号（公開出願番号）：特開2002-298451
出願日： 2001年04月02日
公開日（公表日）： 2002年10月11日
要約：

【要約】【課題】均一なピット形状を有するスタンパ及び光記録媒体を製造することができるスタンパ製造方法及び光記録媒体製造方法を提供する。【解決手段】光記録媒体製造方法において、スタンパ製造工程は、金属基板の面にフォトレジスト層を形成する工程と、フォトレジスト層を記録情報に応じて露光する工程と、フォトレジスト層を加熱する工程と、フォトレジスト層に紫外線を照射する工程と、フォトレジスト層を現像する工程と、フォトレジスト層をマスク部材として金属基板をエッチングする工程と、金属基板からフォトレジスト層を除去する除去工程とを備え、加熱工程は熱源とフォトレジスト層を熱伝導率が5〜25(10-2W・m-1・K-1)の範囲にあるガスの雰囲気中で対向させて配置し加熱するようにした。

請求項（抜粋）：

金属基板の面にフォトレジスト層を形成するフォトレジスト形成工程と、前記フォトレジスト層を記録情報に応じて露光する露光工程と、前記フォトレジスト層を加熱する加熱工程と、前記フォトレジスト層に紫外線を照射する紫外線照射工程と、前記フォトレジスト層を現像する現像工程と、現像された前記フォトレジスト層をマスク部材として前記金属基板をエッチングするエッチング工程と、前記金属基板から前記フォトレジスト層を除去する除去工程とを備え、前記加熱工程は熱源と前記フォトレジスト層を対向させて配置し熱伝導率が5〜25(10-2W・m-1・K-1)の範囲にあるガスの雰囲気中で前記フォトレジスト層を加熱することを特徴とするスタンパ製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 521

FI (2件)：

G11B 7/26 511 ,  G11B 7/26 521

Fターム (8件)：

5D121AA02 ,  5D121CA03 ,  5D121CB03 ,  5D121CB05 ,  5D121CB08 ,  5D121GG02 ,  5D121GG04 ,  5D121GG20