特許

J-GLOBAL ID：200903072703059577

放射能汚染除去方法およびその装置

発明者： 稲見 一郎 ,  松田 伸久 ,  廣瀬 恵美子
出願人/特許権者： 株式会社東芝 ,  東芝エンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 猪股 祥晃 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-014030
公開番号（公開出願番号）：特開2000-214293
出願日： 1999年01月22日
公開日（公表日）： 2000年08月04日
要約：

【要約】【課題】化学除染後の不溶解物残渣を効率よく取除き、放射線被曝の低減に寄与する。【解決手段】除染対象物1内に付着した放射性同位元素を有機酸または酸化剤と有機酸等の化学除染液により化学除染した後、除染対象物1内の残留不溶解物を磁気捕集する。化学除染後に残留する不溶解物残渣は機械的に除去するが、配管など複雑形状で開口が小さいところは水洗し、水洗時に生じるホットスポット部には磁気捕集プローブを挿入して不溶解残渣のニッケルフェライトを捕集する。不溶解残渣の主成分はニッケルフェライトであり、強磁性を有するため、容易に磁気捕集プローブに付着する。

請求項（抜粋）：

配管,機器,設備等の除染対象物内に付着した放射性同位元素を有機酸または酸化剤と有機酸により化学除染した後、前記除染対象物内の残留不溶解物を磁気捕集して除去することを特徴とする放射能汚染除去方法。

IPC (2件)：

G21F 9/28 525 ,  G21F 9/06 531

FI (2件)：

G21F 9/28 525 D ,  G21F 9/06 531