特許

J-GLOBAL ID：200903072720179527

ポジ型ホトレジスト組成物

発明者： 森尾 公隆 ,  加藤 哲也
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-340033
公開番号（公開出願番号）：特開2005-107131
出願日： 2003年09月30日
公開日（公表日）： 2005年04月21日
要約：

【課題】高反射性の金属膜上にホトレジスト組成物を塗布したときにモヤムラが発生するのを抑えること、中央滴下後スピンする塗布法において、滴下跡が生じるのを抑えて膜厚の均一性を向上させること、および吐出ノズル式塗布法において、すじ状痕が生じるのを抑えて膜厚の均一性を向上させること、の少なくとも1つの課題を解決することができ、好ましくは全部の課題を解決することができるポジ型ホトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、(D)有機溶剤、および(E)特定の繰返し単位を含有してなるポリエステル変性ポリジアルキルシロキサン系界面活性剤を含有してなることを特徴とするポジ型ホトレジスト組成物。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)アルカリ可溶性ノボラック樹脂、(C)ナフトキノンジアジド基含有化合物、(D)有機溶剤、および(E)下記一般式(1)

IPC (4件)：

G03F7/004 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075

FI (4件)：

G03F7/004 504 ,  G03F7/022 ,  G03F7/023 511 ,  G03F7/075 521

Fターム (22件)：

2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  4J246AA03 ,  4J246AB01 ,  4J246BA02X ,  4J246BA020 ,  4J246BB02X ,  4J246BB020 ,  4J246CA63U ,  4J246CA63X ,  4J246CA630 ,  4J246EA18 ,  4J246GC42 ,  4J246HA15 ,  4J246HA42