特許
J-GLOBAL ID：200903072740654086
フォトレジスト用現像液に溶解される有機底部反射防止組成物及びそれを利用した写真エッチング方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 渡邊 隆
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-275002
公開番号（公開出願番号）：特開2004-054286
出願日： 2003年07月15日
公開日（公表日）： 2004年02月19日
要約：
【課題】フォトレジスト用現像液に溶解される有機底部反射防止組成物及びそれを利用した写真エッチング工程を提供する。【解決手段】芳香族高分子化合物、熱架橋剤及び有機溶媒を含む有機底部反射防止組成物。芳香族高分子化合物は248nm未満の短波長露光源を吸収するとともに、熱架橋されかつ酸により脱架橋される作用基を具備し、熱架橋剤は高分子化合物の作用基に反応して熱架橋反応を起こす。また有機底部反射防止組成物はフォトレジスト用現像液に溶解できる。したがって、本発明による有機BARC組成物を使用した写真エッチング工程では、フォトレジスト膜の露光及びPEB後に現像段階でフォトレジスト膜と共に有機BARCを同時に現像できるので工程が単純化され、かつフォトレジスト膜の塗布厚さのマージン及びエッチング工程マージンを増大させうる。【選択図】図9
請求項（抜粋）：
248nm未満の短波長露光源を吸収するとともに、熱架橋されかつ酸により脱架橋される作用基を具備する芳香族高分子化合物と、
前記作用基に反応して熱架橋反応を起こす熱架橋剤と、
有機溶媒と、
を含むことを特徴とするフォトレジスト用現像液に溶解可能な写真エッチング用有機底部反射防止組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/11 503
, H01L21/30 574
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025DA34
, 2H025FA17
, 2H025FA39
, 5F046PA01
, 5F046PA07
