特許
J-GLOBAL ID:200903072743979466

スピンエッチング方法及びスピンエッチング装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 近島 一夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-191125
公開番号(公開出願番号):特開平10-036981
出願日: 1996年07月19日
公開日(公表日): 1998年02月10日
要約:
【要約】【課題】 エッチングの進行状況を精度良く把握することのできるスピンエッチング方法及びスピンエッチング装置を提供する。【解決手段】 基板ホルダー2上に固定された状態で回転している被エッチング基板1に光源8より光を照射すると共に、照射された光の反射光の光量又はスペクトルパターンを検出手段10により検出するようにする。そして、制御手段7は、検出手段10にて検出した光量又はスペクトルパターンの変化に基づいてエッチングの進行状況をモニターすると共に、エッチングが終了したと判断した時にはエッチング液の吹き付けを停止するようエッチング液吹き付け手段11,13,14を制御する。
請求項(抜粋):
基板ホルダー上に被エッチング基板を固定した後、前記基板ホルダーを回転させながらエッチング液を前記被エッチング基板表面に吹き付けて該基板表面をエッチングするスピンエッチング方法において、前記被エッチング基板に光を照射すると共に、前記基板からの反射光又は該基板及び前記基板ホルダーを透過した透過光の光量又はスペクトルパターンを検出手段にて検出し、前記光量又はスペクトルパターンの変化に基づいて前記エッチングの進行状況をモニターすることを特徴とするスピンエッチング方法。
IPC (4件):
C23F 1/00 ,  B05C 11/08 ,  C23F 1/08 103 ,  H01L 21/306
FI (4件):
C23F 1/00 A ,  B05C 11/08 ,  C23F 1/08 103 ,  H01L 21/306 R

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