特許
J-GLOBAL ID:200903072755215593

走査電子ビームコンピュータトモグラフィスキャナにおける電子ビーム合焦調整方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中村 稔 (外6名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-516857
公開番号(公開出願番号):特表平9-510570
出願日: 1994年12月13日
公開日(公表日): 1997年10月21日
要約:
【要約】CTシステムにおいて、電子ビーム(12)は、ビームにより発生したイオンの分布を静電的に制御することによって合焦される。上流(自己拡大、非合焦)ビーム領域と下流(収束、自己合焦)ビーム領域の相対的長さが制御され、上流領域のビーム非合焦が下流領域のビーム自己合焦を補償する。したがって、実質的に零の外部合焦力が必要とされる。電子銃(32)の下流に、正イオン電極(PIE)が配置され、各領域の相対長さを決定する。PIEは、ビーム光学軸と同軸に取り付けられ、大きな正電位に接続される。PIEの電位が変化すると、境界位置が変化し、したがって、ビーム非合焦及び自己合焦の効果の大きさが変化する。正イオンは周期的イオン清掃電極(PICE)により除去される。PICEの軸方向電位の変化速度がイオンを迅速に一掃する交番軸方向電界を形成する。
請求項(抜粋):
電子の空間電荷による第1の力が電子ビームを拡大かつ非合焦する上流の非合焦領域と、前記空間電荷の中和と電子ビーム自身の磁界による第2の力が電子ビームを収束させる下流の合焦領域とを有する真空ハウジングチャンバで発生した電子ビームを合焦する機構であって、下流方向に移動する電子ビームがビーム軸を定める機構において、 前記電子ビームとほぼ同軸の電子ビームの発生器から下流に配置された正のイオン電極を備え、 前記下流に配置された正のイオン電極は、該電極を通して上流への移動を制御する軸方向電界を形成する正電位に結合されており、 前記正電位は、前記第1の力と第2の力の効果がほぼ等しい、前記上流と下流の領域を分離する軸方向境界位置を決定しており、 前記電子ビームを合焦するのには、ほぼ零の外部の合焦力が必要である、 ことを特徴とする機構。
IPC (6件):
H01J 35/14 ,  A61B 6/03 320 ,  G01N 23/04 ,  G21K 5/02 ,  G21K 5/08 ,  H01J 37/21
FI (6件):
H01J 35/14 ,  A61B 6/03 320 D ,  G01N 23/04 ,  G21K 5/02 X ,  G21K 5/08 X ,  H01J 37/21 Z

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