特許

J-GLOBAL ID：200903072761230685

露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者： 斉藤 謙治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 高梨 幸雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-354130
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176736
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：

【要約】【課題】 物体面上に形成されているアライメントマークの位置を精密に測定し、微細な電子回路パターンを逐次作成する際に好適な露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 レジストを塗布した基板面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において、パターンの微細構成の種類に基づいて異なった露光手段を用いていること。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布した基板面上に露光光を照射して、その面上にパターンを形成する露光装置において、パターンの微細構成の種類に基づいて異なった露光手段を用いていることを特徴とする露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 502 A ,  G03F 7/20 521