特許
J-GLOBAL ID：200903072766547555
プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
本庄 武男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-317939
公開番号（公開出願番号）：特開平7-176586
出願日： 1993年12月17日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：
【要約】【目的】 効率的で再現性のよい処理を行い得るプラズマ処理装置。【構成】 この装置A1は,試料基板1を着脱自在に保持する静電チャック2を備え,この静電チャック2上に保持された試料基板1を減圧下でプラズマ処理するためのプラズマ処理室3と,プラズマ処理室3に隣接して配備され,同処理室内の減圧状態を維持したままプラズマ処理室3内からプラズマ処理後の試料基板1を大気中へ搬出し,あるいは大気中からプラズマ処理すべき試料基板1′をプラズマ処理室3内へ搬入するための予備室4と,プラズマ処理室3内からプラズマ処理後の試料基板1を予備室4へ搬出した後,予備室4から次にプラズマ処理すべき試料基板1′をプラズマ処理室3内へ搬入する前に,プラズマ処理室3内の圧力を一旦約1Torr以上760Torr以下に上昇させる第1の圧力調整機構B1とから構成されている。上記構成により,効率的で再現性のよい処理を行うことができる。
請求項（抜粋）：
試料基板を着脱自在に保持する静電チャックを備え,該静電チャック上に保持された試料基板を減圧下でプラズマ処理するためのプラズマ処理室と,上記プラズマ処理室に隣接して配備され,プラズマ処理室の減圧状態を維持したままプラズマ処理室内からプラズマ処理後の試料基板を大気中へ搬出し,あるいは大気中からプラズマ処理すべき試料基板をプラズマ処理室内へ搬入するための予備室とを具備したプラズマ処理装置において,上記プラズマ処理室内からプラズマ処理後の試料基板を搬出側予備室へ搬出した後,搬入側予備室から次にプラズマ処理すべき試料基板をプラズマ処理室内へ搬入する前に,上記プラズマ処理室内の圧力を一旦約1Torr以上760Torr以下に上昇させる第1の圧力調整機構を設けてなることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/68
, H01L 21/203
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
