特許

J-GLOBAL ID：200903072771450454

フィルム型高分子導波路の形成方法

発明者： 小谷野 武 ,  前野 仁典 ,  見田 充郎 ,  海部 勝晶
出願人/特許権者： 沖電気工業株式会社
代理人 (1件)： 大垣 孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-266420
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098162
出願日： 1998年09月21日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 安価に、かつ容易にフィルム型高分子導波路を形成する。【解決手段】 リッジ状の凸部を有する高分子フィルム51を用意し、この高分子フィルムの表裏の表面から所定(一定の)深さまで、重合すると高分子フィルムよりも屈折率が低くなるラジカル重合性モノマー61およびラジカル発生剤63を拡散させる。そののち、高分子フィルム51に光を照射することにより、ラジカル重合性モノマー61を重合させてクラッド65を形成する。そのとき、クラッド65により囲まれる部分が必然的に高屈折率のコア59となり、フィルム型高分子導波路67が形成できる。

請求項（抜粋）：

リッジ状の凸部を有する高分子フィルムの表裏から所定深さまでの領域である第1領域に、重合すると前記高分子フィルムよりも屈折率が低くなるラジカル重合性モノマーとラジカル発生剤とを拡散させる工程と、前記拡散済みの前記高分子フィルムに光を照射することにより、前記ラジカル発生剤からラジカルを発生させて前記ラジカル重合性モノマーを重合させ、前記第1領域にクラッドを形成すると同時に、該クラッドよりも内部の領域にコアを形成する工程とを含むことを特徴とするフィルム型高分子導波路の形成方法。

Fターム (8件)：

2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA12 ,  2H047PA15 ,  2H047PA17 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA43