特許
J-GLOBAL ID：200903072776454121

厨芥処理装置

発明者：
高橋 賢三

高橋 賢三 について


出願人/特許権者：
高茂産業株式会社

高茂産業株式会社 について


代理人 (1件)： 絹谷 信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-071022
公開番号（公開出願番号）：特開平8-271147
出願日： 1995年03月29日
公開日（公表日）： 1996年10月18日
要約：
【要約】【目的】 本発明の目的は、小型コンパクトで厨芥の処理能力を大幅に向上させることができる新規な厨芥処理装置を提供する。【構成】 本発明は略矩体状に形成された下部ケーシング1内に、厨芥を投入するホッパー5と、このホッパー5に投入された厨芥を乾燥させる乾燥室6と、この乾燥室6内を排気して温風を導入するための送風機12とを収容すると共に、この下部ケーシング1上部にフレーム2を介して上部ケーシング3を設け、この上部ケーシング3内に、上記送風機12で排気された乾燥室6の排気中の有機成分を燃焼して脱臭すると共にその燃焼熱によって給気を加熱して上記温風を生成するための脱臭・加熱室16と、この脱臭・加熱室16の燃焼排ガスによって上記乾燥室6からでた排気を余熱する熱交換室17とを収容したことを特徴としている。
請求項（抜粋）：
略矩体状に形成された下部ケーシング内に、厨芥を投入するホッパーと、このホッパーに投入された厨芥を乾燥させる乾燥室と、この乾燥室内を排気して温風を導入するための送風機とを収容すると共に、上記下部ケーシング上部にフレームを介して上部ケーシングを設け、この上部ケーシング内に、上記送風機で排気された乾燥室の排気中の有機成分を燃焼して脱臭すると共にその燃焼熱によって空気を加熱して上記温風を生成するための脱臭・加熱室と、この脱臭・加熱室の燃焼排ガスによって上記乾燥室からでた排気を余熱する熱交換室とを収容したことを特徴とする厨芥処理装置。
IPC (7件)：
F26B 21/00 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/38 ,  B01D 53/74 ,  B09B 5/00 ZAB ,  F26B 17/20 ,  F26B 23/00
FI (6件)：
F26B 21/00 K ,  F26B 17/20 C ,  F26B 23/00 A ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/34 116 H ,  B09B 5/00 ZAB P
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 生ごみ処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-182758   出願人：財団法人石油産業活性化センター, 東燃株式会社
  • 厨芥処理機
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-200917   出願人：松下電工株式会社
  • 生ごみ処理機
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-053432   出願人：松下電器産業株式会社

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