特許
J-GLOBAL ID：200903072780092714

光分解を利用した高分子ナノ粒子の製造法

発明者：
吉田 絵里

吉田 絵里 について

, 
桑山 聡

桑山 聡 について


出願人/特許権者：
国立大学法人豊橋技術科学大学

国立大学法人豊橋技術科学大学 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-167648
公開番号（公開出願番号）：特開2009-007403
出願日： 2007年06月26日
公開日（公表日）： 2009年01月15日
要約：
【課題】光分解反応を利用して、電子写真の現像材、印刷用インク、建築用塗料等の構成材料としての用途が見込まれる高分子の集合体よりなるナノ粒子を提供すること、及び光記憶材料や光センサーなどへの応用展開が見込まれる光分解による新しいナノ粒子の製造技術の提供。【解決手段】スチレン系高分子とtert-ブトキシ基含有の高分子からなるブロック共重合体に、光酸発生剤存在下で光照射することにより、該共重合体の一部が分解し集合することにより数十ナノメートルのナノ粒子が得られることを見出し、本発明を完成した。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で示されるジブロック共重合体に、光酸発生剤存在下で光照射することによりナノ粒子を製造する方法。 一般式(1)
IPC (8件)：
C08J 3/28 ,  G03G 9/087 ,  C09J 201/00 ,  C09J 153/00 ,  C09J 11/06 ,  C08J 3/12 ,  C08F 8/12 ,  C09J 125/02
FI (8件)：
C08J3/28 ,  G03G9/08 381 ,  C09J201/00 ,  C09J153/00 ,  C09J11/06 ,  C08J3/12 Z ,  C08F8/12 ,  C09J125/02
Fターム (25件)：
2H005AB02 ,  2H005EA05 ,  4F070AA17 ,  4F070AA18 ,  4F070AB08 ,  4F070AC33 ,  4F070AC50 ,  4F070AE08 ,  4F070AE16 ,  4F070AE23 ,  4F070HA01 ,  4F070HA03 ,  4F070HB14 ,  4F070HB15 ,  4J040DM002 ,  4J040KA03 ,  4J040KA42 ,  4J100AB02Q ,  4J100AB07P ,  4J100BA04P ,  4J100HA08 ,  4J100HC04 ,  4J100HC69 ,  4J100HE05 ,  4J100HE20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (6件)
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