特許

J-GLOBAL ID：200903072785811875

露光装置

発明者： 伊藤 良延
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 猪熊 克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-053971
公開番号（公開出願番号）：特開平10-232497
出願日： 1997年02月20日
公開日（公表日）： 1998年09月02日
要約：

【要約】【課題】2重露光を行っているにも拘らず露光時間が2倍とならず、しかも光の利用効率も十分に高い露光装置を提供する。【解決手段】第1のレチクルR1上のパターンと第2のレチクルR2上のパターンによってウエハWに転写しようとするパターンを構成し、両レチクルR1,R2上の両パターンを投影光学系PLによってウエハWに投影する露光装置において、両レチクルR1,R2を透過した光束を統合用偏光ビームスプリッターPBに入射し、且つ、統合用偏光ビームスプリッターPBによって両光束が統合されるように、統合用偏光ビームスプリッターPBに入射する時点での両光束の偏光状態を、第1のレチクルR1を透過した光束はP偏光となり、第2のレチクルR2を透過した光束はS偏光となるように構成した。

請求項（抜粋）：

第1のレチクル上のパターンと第2のレチクル上のパターンによってウエハに転写しようとするパターンを構成し、両レチクル上の前記両パターンを投影光学系によって前記ウエハに投影する露光装置において、前記両レチクルを透過した光束を統合用偏光ビームスプリッターに入射し、且つ、該統合用偏光ビームスプリッターによって前記両光束が統合されるように、統合用偏光ビームスプリッターに入射する時点での前記両光束の偏光状態を、前記第1のレチクルを透過した光束はP偏光となり、第2のレチクルを透過した光束はS偏光となるように構成したことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 521 ,  G03B 27/32 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 521 ,  G03B 27/32 F ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D