特許

J-GLOBAL ID：200903072786937236

高コントラストで書き込まれたシリコン含有物体の製造

発明者： トーマス・ナウマン ,  ハンス-デイーター・アベルレ
出願人/特許権者： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ,  フオバ・フオルメンバウ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-350026
公開番号（公開出願番号）：特開平8-231740
出願日： 1995年12月25日
公開日（公表日）： 1996年09月10日
要約：

【要約】【課題】 高コントラストで書き込まれたシリコン含有物体の製造。【解決手段】 シリコン物体に高コントラストで書き込みを行う方法であって、上記シリコンとして架橋シリコンを用いそしてレーザー光を用いた照射を行うことを含む方法。

請求項（抜粋）：

高コントラストの書き込みを有するシリコン含有物体を製造する方法であって、個別にか或は混合物の形態で使用可能な添加剤a)として無機顔料、カーボンブラック、金属酸化物、無機スピネル、真珠箔顔料、クロム酸鉛、硫酸バリウム、硫酸銅、無水硫酸銅、炭酸銅、ケイ酸ジルコニウム、粉末金属または粉末合金を純粋な形態またはペースト形態で全混合物を基準にして0.005から30重量%含む架橋シリコンを、必要な書き込みを与えるに必要な様式で、レーザー光で照射する方法。

IPC (5件)：

C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  C08J 5/10 CFH ,  C08K 3/00 ,  C08L 83/04 LRX

FI (5件)：

C08J 7/00 302 ,  C08J 7/00 CFH ,  C08J 5/10 CFH ,  C08K 3/00 ,  C08L 83/04 LRX